EWD系列卷绕式真空镀膜设备

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EWD系列卷绕式真空镀膜设备属于双面镀膜设备，可单次在薄膜两面同时镀膜，实现电容产品高容量化、小型化、高性能化。

设备型号： EWD-080C      

镀膜方法： 电阻加热式蒸发镀膜（蒸发舟）

基膜类型： PET 2.0∽9μm / OPP 4.0∽9μm

基膜宽度： Max. 824mm

机械速度： Max.1000 m/min

安全膜精度：<0.2±0.05mm

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